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磁控濺射設(shè)備原理與應(yīng)用:全面解析
發(fā)布時(shí)間:2025-05-12

磁控濺射是一種常見(jiàn)的薄膜沉積技術(shù),廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、光電子以及光學(xué)涂層等領(lǐng)域。磁控濺射設(shè)備通過(guò)高能粒子撞擊靶材,使靶材原子或分子逸出,沉積在基板上,形成薄膜。一、磁控濺射原理磁控濺射設(shè)備的核心原理是通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)濺射過(guò)程。濺射是指當(dāng)高能粒子(通常為氬氣離子)撞擊固體材料表...

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    發(fā)布時(shí)間:2021-11-08
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    發(fā)布時(shí)間:2021-10-14
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